光刻胶是一种用于微纳加工领域的特殊材料。

光刻胶，也被称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料。它主要被应用在半导体制造中，特别是在集成电路制造过程中扮演重要角色。光刻胶的主要功能是在硅片表面形成图案，这些图案的精细程度直接影响着最终电子产品的性能。

光刻胶的工作原理相对复杂。在光刻过程中，光刻胶被涂抹在硅片表面并经过硬化处理。接着使用特定波长的光源通过掩模板进行曝光，掩模板上的图案会投影到光刻胶上。经过曝光后的光刻胶，其某些区域的化学性质会发生变化。随后经过显影液的处理，原本暴露在光源下的区域会与显影液发生反应，从而实现图形转移。最后，通过蚀刻过程将图案刻在硅片上。在这个过程中，光刻胶起到了保护硅片的角色，确保只有需要被刻蚀的区域受到蚀刻剂的影响。因此，光刻胶的精度和质量对半导体制造工艺至关重要。

简单来说，光刻胶就是一种在半导体制造中起到关键作用的特殊材料，它能够在硅片表面形成精细的图案，并且确保这些图案能够以高精度和高效率的方式被转移到硅片上。随着科技的不断发展，光刻胶的性能也在不断提升，以满足更先进的半导体制造工艺的需求。